Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

В примесном полупроводнике n-типа




Концентрация носителей заряда

 

В примесном плупроводнике уровень Ферми смещается от середины запрещенной зоны так, чтобы обеспечивалось условие электронейтральности кристалла. Уравнение электронейтральности для примесного полупроводника с учетом перехода электронов из валентной зоны в зону проводимости имеет вид

no = + po (1.7)

В зависимости смещения EF и концентрации носителей заряда от температуры можно выделить три области: низких температур, истощения примеси и собственной проводимости.

В области низких температур средняя энергия тепловых колебаний кристаллической решетки kT << ΔEg, поэтому вероятность перехода электрона из валентной зоны в зону проводимости чрезвычайно мала. В то же время для возбуждения электронов донора требуется энергия примерно в 100 раз меньшая, так как ΔEd << ΔEg/100. Поэтому в зоне проводимости появляются электроны практически только за счет ионизации донора и, следовательно, в уравнении (1.7) концентрацией дырок в валентной зоне можно пренебречь и записать (1.7) в виде

no = Nd+. (1.8)

Концентрация электронов в зоне проводимости определяется формулой (1.1). Ионизированный атом донора эквивалентен дырке на примесном уровне, поэтому для концентрации Nd+ можно записать соотношение, аналогичное (1.2),

Nd+ = Ndexp[-(EF – Ed)/kT]. (1.9)

Подставляя (1.1) и (1.9) в уравнение электронейтральности (1.8) и решая относительно ЕF, получим

. (1.10)

Из (1.10) видно, что при Т = 0К равновесный уровень Ферми располагается по середине между дном зоны проводимости и уровнем донора. При повышении температуры уровень Ферми смещается к середине запрещенной зоны, так как Nd < Nc. Величина Nd, как правило, не превышает 1017 см-3.

Подставляя в (1.1) энергию Ферми (1.10), получим выражение для равновесной концентрации электронов в зоне проводимости в области низких температур

. (1.11)

На рис.1.2.а изображена температурная зависимость энергии уровня Ферми для полупроводника n-типа, а на рис.1.2.б – зависимость lnn0 от обратной температуры 1/Т. Низким температурам на рис.1.2 соответствует область, обозначенная цифрой 1. В этой области зависимость lnn0 от 1/Т имеет вид прямой, угол наклона которой определяется энергией ионизации примеси ΔЕd.

С повышением температуры концентрация электронов на уровне донора уменьшается из-за их переходов в зону проводимости – примесный уровень истощается. Уровень Ферми при этом смещается вниз. При полном истощении, когда Nd+ = Nd, концентрация электронов в зоне проводимости равна концентрации донора, если концентрацией собственных носителей можно по-прежнему пренебречь. Уравнение электронейтральности (1.8) в этом случае примет вид

n0 = Nd. (1.12)

Используя для no выражение (1.1), и решая (1.12) относительно EF, получим

(1.13)

Уровень EF должен располагаться ниже уровня Ed, так как при EF=Ed ионизирована лишь половина атомов донора. Однако за температуру истощения примеси принимают температуру Ts, при которой уровень Ферми совпадает с донорным уровнем (рис.1.2.а), т.е. EFs = Ed. Положив в (1.1) T = Ts, EF = EFs и n = Nd/2, логарифмируя его и разрешая относительно EFs, получим

= ,

Отсюда температура истощения примеси Тs с учетом EFs = Ed.

. (1.14)

Из (1.14) видно, что Ts тем ниже, чем меньше энергия ионизации при-меси ΔEd и ее концентрация Nd. Для Ge, например, при Nd = 1017 см-3 и ΔEd = 0,01эВ Ts ≈ 32K.

Выше температуры истощения примеси концентрация электронов в зоне проводимости сохраняется практически неизменной и равной Nd, а уровень Ферми понижается приблизительно линейно с ростом температуры. На рис.1.2 области истощения примеси соответствует область, обозначенная цифрой 2.

Отметим, что в области истощения примеси концентрация неосновных носителей заряда рo, связанная с возбуждением электронов валентной зоны, будет возрастать с увеличением температуры, поскольку остается справедливым закон действующих масс и рo = / no, где ni и no определяются формулами (1.6) и (1.12) соответственно. Это выражение применимо при po << no = Nd. При этом изменение no в результате перехода электронов из валентной зоны можно не учитывать в силу его малости.

Высокими температурами считаются температуры, при которых происходит столь сильное возбуждение собственных носителей, что их концентрация много больше примесных: ni >> nпр = Nd. Поэтому концентрацию электронов в зоне проводимости можно считать равной концентрации дырок в валентной зоне: no = po = ni. Уровень Ферми в этом случае определяется соотношением (1.5), а концентрация носителей - (1.6). Можно приблизительно определить температуру перехода к собственной проводимости Ti, если принять, что величина EF, определяемая (1.13), равна величине EiF, определяемой (1.5)(рис.1.2.а). Из этого равенства можно получить, что

. (1.15)

Из (1.15) видно, что температура перехода к собственной проводимости тем выше, чем больше ΔEg и Nd. Для Ge при Nd = 1017 см-3 температура Ti ≈ 580 K.

На рис.1.2 высоким температурам соответствует область, обозначенная цифрой 3. Видно, что в этой области lnno линейно возрастает с увеличением температуры, причем наклон прямой согласно (1.6) пропорционален ширине запрещенной зоны.

Аналогичные соотношения можно получить и для полупроводника р-типа. Например, выражения для концентрации дырок в валентной зоне для областей низких температур, истощения примеси и собственной проводимости имеют вид

; ; .

 




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2015-06-26; Просмотров: 713; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.009 сек.