Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

Собственный полупроводник: концентрация носителей заряда и положение уровня Ферми




Определим собственную концентрацию носителей заряда, для невырожденного полупроводника:

(2.70)

Таким образом концентрация собственных носителей заряда ni зависит от температуры Т, ширины запрещенной зоны Еg, значений эффективныхмассносителей заряда и не зависит от положения уровня Ферми.

Оценим собственную концентрацию носителей зарядов в Si и Ge: Для Si (, ): при T =300К, эВ; см-3. при T =600К, эВ; см-3. Для Ge (, ): при T =300К, эВ; см-3 при T =600К, эВ; см-3.   Рис. 2.10. Зависимость собственной концентрации носителей заряда в германии, кремнии и арсениде галлия от обратной температуры.

Согласно формуле (2.70) графическая зависимость ln(niT-3/2) = Eg/kT =const должна выражаться прямой линией (рис. 2.10). Угол наклона этой прямой tgΘ=Eg/2kT. Однако полученные по данным рис. 2.10 значение Eg не соответствует истинной ширине запрещенной зоны германия. Причина этого расхождения заключается в том, что сама ширина запрещенной зоны изменяется с температурой. Причина – изменение межатомных расстояний в решетке, размытие «кристалличности» из-за фононов.

 

Положение уровня Ферми в собственном полупроводнике определяется из условия

n0=p0 или (2.71)

Откуда легко получить для уровня Ферми

(2.72)

Подставив значения Nc и Nv, получим:

(2.73)

Из последнего выражения видно, что при Т =0 уровень Ферми для собственного полупроводника располагается посредине между дном зоны проводимости и вершиной валентной зоны т.е. . В случае его положение не зависит от температуры и EF лежит в середине запрещенной зоны. При уровень Ферми смещается с повышением температуры ко дну зоны проводимости, а при - к потолку валентной зоны. Изменение положения уровня Ферми с ростом температуры наглядно можно представить таким образом:

У собственного полупроводника согласно формуле (2.73) скорость изменения уровня Ферми с температурой пропорциональна отношению эффективных масс дырок и электронов. В результате этого с повышением температуры уровень Ферми отдаляется от зоны с тяжелыми носителями заряда, приближаясь к зоне с легкими носителями. И если расстояние от уровня Ферми до зоны становится соизмеримо с величиной кТ, то в ней наступает вырождение и соответствующий интеграл Ферми уже не может быть заменен экспонентой. При этом, чем сильнее различаются эффективные массы электронов и дырок, тем раньше наступает вырождение. Если, например, имеет место вырождение в зоне проводимости, а в валентной зоне оно отсутствует, то выражение для собственной концентрации носителей заряда будет иметь вид, приведенный на рис. 2.11.

(2.74)




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2014-01-07; Просмотров: 2069; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.008 сек.