Идея метода

Металлизация с использованием магнетронного источника

Недостатки метода

Преимущества метода

• большее, чем в других способах, количество распыляемого вещества, достигающего поверхности подложек (реализовано за счет высокого вакуума);
• малая степень внедрения ионов остаточного газа в осаждаемую пленку;
• возможность удаления окисных и других пленок во вскрытых областях подложки за счет ее ВЧ-обработки перед осаждением (ионное травление);
• возможность выравнивания поверхности перед металлизацией за счет ВЧ-обработки подложки при осаждении (распыление со смещением).

• внедрение аргона (2%) и фонового газа (1%) в пленку;
• нагрев подложек (до 350 °С);
• отсутствие возможности одновременного нанесения пленок на большое количество пластин;
• наличие проникающего излучения.

Электроны, ускоряясь в электрическом поле, производят ионизацию газа, например, аргона. Ионы аргона ускоряются в электрическом и магнитном полях и фокусируются на поверхности металлической мишени. При этом плотность потока ионов достигает значительной величины.

В промышленных установках используют конический или планарный источники (см. рис. 1, 2).

В коническом магнетроне используют концентрический анод и катод, а магнитное поле создают постоянными магнитами.

В планарном магнетроне используют как постоянные, так и электромагниты.

Дата добавления: 2014-12-27