Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

Вольтамперная характеристика




Зависимость тока через p-n переход от приложенного напряжения называется ВАХ p-n перехода. Она имеет вид I = I0 [exp (U/jT) – 1],

где I0 – обратный ток насыщения. При увеличении Uпр прямой ток Iпр увеличивается по экспоненте, так как с увеличением Uпр снижается потенциальный барьер и увеличивается диффузия основных носителей. Величина обратного тока сильно зависит от температуры (на графике Т21), причем при |Uобр| >> jT ток I0 не зависит от обратного напряжения, а обусловлен концентрацией неосновных носителей заряда.

 

5. Основные параметры p-n перехода.

1) Характеристические сопротивления по постоянному току R=U/I=jTln(I/I0+1)/I=(jT/I)ln(I/I0+1) и по переменному току rд (или дифференциальное сопротивление) rд = dU/dI=d[jT ln(I/I0+1)]/dI=(jT× I0) / [(I+I0)I0]=jT / (I+I0)» jT/I;

2) Ёмкости p-n перехода. Различают барьерную и диффузионную емкости p-n перехода:

а) барьерная (зарядная) ёмкостьCбар обусловлена наличием зарядов (+ и - ионов) в запирающем слое в условиях равновесия и при обратном смещении перехода, т.е. отражает перераспределение зарядов в переходе ;

б) диффузионная ёмкость Сдиф обусловлена изменением зарядов в переходе за счёт инжекции основных носителей при прямом смещении (отражает перераспределение зарядов вблизи перехода) Сдиф = (q/kT)Iпрt = Iпрt /jТ.

3) Температурная зависимость обратного тока. Тепловой обратный ток I0t зависит от температуры, так как при нагреве п/п увеличивается генерация неосновных носителей, при этом тепловой ток удваивается при нагреве на 8 ºС у германиевых приборов или на 10ºС – у кремниевых приборов: I0t = I0 eaDt.

 

6. Пробой p-n перехода.

Под пробоем понимают резкое уменьшение обратного сопротивления и резкое возрастание обратного тока при незначительном увеличении напряжения. Различают два вида пробоя: а) тепловой – в результате недостаточного теплоотвода, когда рассеиваемая мощность на переходе больше мощности отводимой. Пробой необратим, прибор выходит из строя; б) электрический пробой связан с увеличением напряженности в запирающем слое. Электрический пробой подразделяется на два вида: а) лавинный пробой заключается в размножении носителей в сильном электрическом поле за счёт ударной ионизации. Имеет место в широких переходах. б) туннельный пробой (зенеровский) развивается в узких переходах. В п/п с высокой концентрацией примеси под действием напряженности поля возникает туннельный эффект, т.е. просачивание электронов сквозь потенциальный барьер (если толщина барьера мала) без затраты дополнительной энергии. Туннельный эффект возможен при обратном и небольшом прямом напряжениях, пока дно зоны проводимости ниже потолка валентной зоны.

 

7. Методы изготовления p-n перехода.

1) Метод сплавления:

а) плоскостной. На пластинку nGe помещается таблетка индия (In) и подвергается термообработке при 850оС. Получается германий p -типа с резким переходом с большой площадью и большой барьерной емкостью Сбар. Рабочие частоты низкие;

б) точечный. На пластинку nGe помещается индий (In) в виде иглы, пропускается импульс тока, расплавляется кончик иглы и получается точечный переход. Площадь перехода и барьерная емкость малы, рабочая частота высокая.

2) Метод диффузии. Осуществляется диффузия атомов примеси из газообразной, жидкой фазы в п/п. Концентрация примеси плавно уменьшается по экспоненте.

3) Метод эпитаксиального наращивания. Поочередно наращиваются плёнки с нужным типом проводимости.

 




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2015-05-06; Просмотров: 634; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.007 сек.