КАТЕГОРИИ: Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748) |
Переходные процессы при малых напряжениях
Эквивалентная схема диода приведена на рис.2. В момент включения импульса U пр << φ 0, поэтому напряжение на p – n -переходе близко к нулю, а ток через диод I пр max = U пр/ r б ограничен только сопротивлением базы диода r б (рис.3). По мере заряда барьерной емкости напряжение на p – n -переходе и ток через диод стремятся к установившимся значениям U пр, I пр, которые определяются дифференциальным сопротивлением p – n -перехода r диф и сопротивлением r б. В момент переключения напряжения на диоде с прямого на обратное напряжение на барьерной емкости не может измениться мгновенно, оно достигает установившегося значения U обр через некоторое время, как показано на рис.3,б. Ток через диод меняет свое направление и спадает экспоненциально от I обр max до тока обратносмещенного диода I нас. Временная зависимость силы тока, протекающего через диод (рис.3,в), качественно совпадает с изменением силы тока, протекающего через конденсатор. Однако следует отметить, что барьерная емкость является нелинейной.
Диффузионная емкость проявляется при прямом включении p – n- перехода и большом уровне инжекции носителей заряда. Зонная диаграмма прямосмещенного p – n -перехода приведена на рис.4. На рисунке изображен несимметричный p – n -переход с эмиттером электронов. Напряжение U внешнего источника питания уменьшает величину электрического поля в p – n -переходе E=E к- E вн (E к - контактное, E вн − поле внешнего источника питания) и повышает энергию электронов в эмиттере n +-типа. При этом уровень Ферми W F (жирный пунктир на рис.4) поднимается, потенциальный барьер уменьшается до величины q (j 0- U), толщина p – n -перехода уменьшается до величины , где e − относительная диэлектрическая проницаемость кристалла полупроводника, e 0 = 8.86·10−12 Ф/м − диэлектрическая постоянная, N a и N d – концентрации акцепторных и донорных примесей соответственно в эмиттере и базе. Из эмиттера в базу течет диффузионный ток электронов. Концентрация электронов в базе на границе p – n -перехода n p(0) = n pexp U / j т выше равновесной концентрации электронов в глубине базы n p. За счет разности концентраций n p(0) −n p = n p(exp U / j т−1) начинается диффузия электронов в глубину базы. Происходит их частичная рекомбинация с основными носителями заряда в базе (дырками). По мере продвижения электронов в глубину базы их избыточная концентрация убывает с увеличением х по закону n p(х) −n p = [ n p(0)– n p]exp(– x / Ln), здесь L n – средняя длина диффузии электронов, на которой концентрация электронов уменьшается в е ≈2.7 раз. Следует отметить, что в соответствии с принципом электрической нейтральности из глубины базы дрейфуют дырки и вблизи p – n -перехода возникает избыточный заряд дырок, уравновешивающий избыточный заряд электронов. Эти два заряда, возникшие в базе вблизи границы p – n -перехода, и образуют заряд диффузионной емкости прямосмещенного p – n -перехода. Заряд диффузионной емкости не может накопиться или рассосаться мгновенно. Поэтому при изменении напряжения источника питания U возникает переходный процесс, который длится конечное время. Время переходного процесса определяется многими факторами: концентрацией неосновных носителей, коэффициентом диффузии D [1/см2·c], временем жизни неосновных носителей в базе τ n и наличием встроенного в базу дополнительного электрического поля. Величину поверхностной плотности заряда диффузионной емкости можно оценить, если заменить экспоненциальное распределение концентрации электронов в базе линейным, спадающим с n p(0) до n p на средней длине диффузии L n. Тогда поверхностная плотность заряда рассчитывается как площадь под треугольником Q диф = qn p(exp U пер/ j т−1)· L n/2. Если пренебречь падением напряжения на низкоомной области эмиттера, омических контактах и выводах диода, то напряжение на p – n -переходе U пер = U − U б, где U б – падение напряжения на высокоомной области базы. Величина диффузионной емкости С = SQ диф/ U пер = Sqn p(exp U / j т−1) L n/(2 U пер) нелинейно зависит от напряжения питания U, здесь S – площадь p – n -перехода.
Дата добавления: 2014-01-11; Просмотров: 432; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы! Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет |