Планарная технология. Планарная технология – совокупность способов изготовления ПП приборов и ИМС путем формирования их структур только с одной стороны пластины (подложки)

Планарная технология – совокупность способов изготовления ПП приборов и ИМС путем формирования их структур только с одной стороны пластины (подложки), вырезанной из монокристалла. Планарная технология – основа микроэлектроники, методы которой используют также для изготовления других твердотельных приборов и устройств (например, лазеров).

Преимущественное распространение в качестве ПП материала для подложек в планарной технологии получил монокристаллический кремний. В ряде случаев используют сапфир, на поверхность которого наращивают гетероэпитаксиальный слой кремния n- или p-типа проводимости толщиной 1 мкм. Области структур создаются локальным введением в подложку примесей (посредством диффузии из газовой фазы или ионным легированием), осуществляемым через маску (обычно из пленки формируемую при помощи фотолитографии. Последовательно проводя процессы окисления, фотолитографии и введения примесей, можно получить легированную область любой требуемой конфигурации, а также внутри области с одним типом проводимости (уровнем концентрации примеси) создать другую область с другим типом проводимости. Наличие на одной стороне пластины выходов всех областей позволяет осуществить их коммутацию в соответствии с заданной схемой при помощи пленочных металлических проводников, формируемых также с помощью методов фотолитографии.

Планарная технология обеспечивает возможность одновременного изготовления в едином технологическом процессе большого числа (до нескольких сотен и даже тысяч) идентичных дискретных ПП приборов или ИМС на одной пластине. Групповая обработка обеспечивает хорошую воспроизводимость параметров приборов и высокую производительность при сравнительно низкой стоимости изделий.

Дата добавления: 2014-01-11