Принцип дії польового транзистора з інверсним шаром. Основні характеристики приладу

Принцип роботи польового транзистора (field effect transistor, FET) з інверсним шаром є загальновідомим. Цей 4-полюсний прилад складається з напівпровідникової підкладки р-типу, в якій сформовано дві сильнолеговані n+-області – витік і стік. Металевий електрод, який відокремлено від підкладки тонким шаром оксиду, називається затвором (рис. 3.1, а).

Рис.3.1. Схема польового транзистора на напівпровіднику р-типу (а), залежність струму витік – стік І_ВС від напруги витік – стік V_ВС при різних V_G (б) і струму І_ВС від V_G при V_ВС = const  

Основні параметри структури – довжина каналу L (відстань між металургійними границями n+-р переходів витоку та стоку, ширина каналу W, товщина шару ізолятора d, глибина переходів і рівень легування підкладки N_A. Для електричної ізоляції окремий транзистор оточено товстим шаром пасивуючого оксиду. При розгляді приладу, всі потенціали відраховують від потенціалу витоку, який зазвичай заземлюють. Якщо напруга на затворі відсутня, електричне коло витік – стік представляє собою два n+-р переходи, які ввімкнено назустріч один одному, й тому по цьому колу може протікати дуже малий струм, що дорівнює струму витоку зворотно-зміщеного переходу. Якщо ж до затвора прикладено достаньо велику позитивну напругу V_G, яка перевищує порогову V_T, то біля границі з підзатворним оксидом утворюється інверсний шар або канал n-типу, який з'єднує n+ області стоку і витоку. Провідність цього каналу модулюється при зміні напруги на затворі. Тильний контакт до підкладки може бути під тим самим потенціалом, що й витік, або під напругою, яка відповідає зворотному зміщенню n+-р переходу витік – підкладка.

Якщо напруга на затворі достатня для сильної інверсії на границі з оксидом, а напруга на стоці не надто велика, то інверсний шар діє як звичайний опір. Струм через провідний інверсний канал І_ВС буде підвищуватись пропорційно напрузі стоку V_BC (рис.3.1,б). Це лінійна область роботи приладу. Із зростанням напруги V_BC може настати момент, коли ширина каналу, а відповідно і заряд інверсійного шару на межі зі стоком стає рівним нулю. Ці умови відповідають початку режиму відсічки каналу.

Для ідеалізованої моделі польового транзистора вводять такі допущення: а) підзатворна область – це ідеальна МОН-структура, без поверхневих електронних станів (ПЕС), без фіксованого заряду в оксиді, за відсутності різниці в роботах виходу метал-напівпровідник; б) рухливість у каналі не залежить від електричного поля; в) концентрація легуючої домішки в каналі однорідна; г) електричне поле вздовж поверхні значно менше поперечної складової (наближення плавного каналу); д) враховується тільки дрейфова компонента струму. Тоді рівняння ВАХ у режимі вимірювань струму витік – стік І_ВС можна записати як:

(3.1)

де μ_n – рухливість електронів у n каналі, C_ox – ємність оксиду. В області насичення При напругах вищих за точку відсічки каналу зі стоком, нехтуючи ефектом зміни довжини каналу з напругою V_BC, і поклавши V_BC=V_G-V_T це рівняння переписується як:

(3.2)

Тобто при V>V_T спостерігається майже лінійна залежність I_BC від прикладеної напруги (рис.3.1,в). Диференціюючи вирази (3.1) та (3.2), можна отримати вирази для провідності g_D і крутизни g_m ідеального МОН-транзистора в лінійній області, які характеризують чутливість приладу:

Gconst

(3.3)

(3.4)

Як видно, чутливість МОН-транзистора лінійно підвищується з Cox, тобто підзатворний оксид треба робити якомога тоншим. Крутизна характеристики визначається важливим параметром напруги V_T. Якщо врахувати неідеальність МОН-структури (фіксований заряд в оксиді та різницю робіт виходу електрона з металу та напівпровідника), то це веде до зсуву напруг плоских зон МОН-структури V_FB, на цю саму величину має зсунутися й порогове значення МОН-транзистора. Враховуючи це, напруга V_T визначається як:

(3.5) де ψp – потенціал у р-області, Vps – напруга зворотного зміщення на підкладці, а величина напруги плоских зон V_FB дорівнює:

(3.6)

Тобто V_FB визначається різницею робіт виходу електрона з металу та напівпровідника Ф_MS, фіксованим зарядом в інтерфейсі SiO₂-Si Q_f і розподілом зарядів в оксиді ρ(x).

Дата добавления: 2015-01-03