Иллюстрации к лекции 18

1- подложка, 2- нагреватель, 3 - державка, 4- изолятор, 5- испаряемый материал.

Схема установки для нанесения покрытий катодным распылением:

1 – камера; 2 – катод; 3 – заземленный экран; 4 – заслонка; 5 – подложка;

6 – заземленный анод; 7 – резистивный нагреватель подложки

Схема магнетронной системы ионного распыления с плоским катодом:

1 – изолятор; 2 – магнитопровод; 3 – система водоохлаждения;

4 – корпус катодного узла; 5 – постоянный магнит; 6 – стенка вакуумной

камеры; 7 – силовые линии магнитного поля; 8 – кольцевой водоохлаждаемый

анод; 9 – зона эрозии распыляемого катода

Схема включения постоянного отрицательного

и импульсного потенциала

Временная зависимость суперпозиции постоянного

и импульсного потенциалов

Схема технологической системы синтеза покрытий на базе вакуумно-дугового разряда: 1 – вакуумная камера; 2 – испаряемый материал:

3 – плазменный поток; 4 – источник питания дугового испарителя; 5 – коаксиальный кабель; 6 - конденсатор переменной емкости;

7 – ВЧ генератор; 8 – изделия [41]

Схема установки для нанесения многослойных двухфазных наноструктурных покрытий TiN-СrN. 1 – вакуумная камера; 2 – система

автоматического поддержания давления азота; 3 – испаритель хрома; 4 – испаритель титана; 5 – подложкодержатель; 6 – подложка;

7 – источник постоянного напряжения; 8 – генератор импульсов; 9 – программирующее устройство

Схема ионно-лучевого распыления:

1 – вакуумная камера; 2 – держатель подложки; 3 – подложка; 4 – поток ионов;

5 – распыляемый материал; 6 – держатель мишени; 7– ионно-лучевой источник;

8 – магнитная система концентрации плазмы тлеющего разряда; 9 – устройство

фокусировки ионного луча; 10 – зона концентрации плазмы тлеющего разряда;

11 – поток частиц, осаждающихся на подложку

Установка ионной имплантации:

1 – ионный источник; 2 – блок питания ионного источника; 3 – система подачи газа в объем источника; 4 – система дифференциальной вакуумной откачки; 5 – магнитный анализатор-сепаратор ионного пучка; 6 – апертура, формирующая ионный пучок; 7 – ускорительные секции и блок высоковольтных источников; 8 – электромагнитные линзы; 9 – устройства фильтрации и отклонения пучка;

10 – камера для поглощения атомных и частиц и примесных ионов; 11 – устройство сканирования (пластины, отклоняющие пучок по координатам X и Y); 12 – цилиндр Фарадея для измерений параметров пучка; 13 – приемная камера мишеней; 14 – держатель мишеней с нагревателем; 15 – устройство нагрева и контроля температуры мишеней; 16 – шлюзовое вакуумное устройство с кассетным механизмом перезагрузки приемной камеры; 17 – устройство контроля параметров ионного пучка

Дата добавления: 2014-01-04