Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

Влияние температуры окружающей среды на ВАХ реального p-n перехода с туннельным эффектом




Колебания температуры окружающей среды приводят к изменениям характеристик и параметров примесных полупроводников, а, следовательно, и полупроводниковых структур на их основе. Из-за высокой степени легирования исходных примесных полупроводников электронно-дырочного перехода с туннельным эффектом влияние температуры проявляется значительно слабее, чем в обычных p-n переходах. Особенно это заметно на участке вольтамперной характеристики p-n перехода с туннельным эффектом, на котором ток определяется туннельной составляющей общего тока p-n перехода:

I = I T + ID + IE,

где I – общий ток p-n перехода с туннельным эффектом; ID – диффузионная составляющая тока; I T – туннельная составляющая тока; IE – дрейфовая составляющая тока. На ВАХ p-n перехода с туннельным эффектом, представленной на рис. 8, ток на участке DOAB зависит в основном от туннельной составляющей. Поэтому на указанном участке ВАХ p-n перехода изменение температуры окружающей среды будет сказываться слабо, как это показано на рис. 10.

На участке OD ВАХ (см. рис. 10) обратный ток с ростом температуры окружающей среды увеличивается незначительно, так как при этом возрастает дрейфовая составляющая тока IE (15), которая изменяется по экспоненциальному закону от температуры, а туннельная составляющая I Т (15) изменяется очень слабо. Вес IE в выражении (15) на участке OD ВАХ (см. рис. 10) очень мал. При увеличении температуры от значения Т 1= +20 °С до величины Т 2=+70 °С экспоненциально возрастает дрейфовая составляющая тока IE, уменьшается ширина обратносмещенного p-n перехода, растет напряженность электрического поля на p-n переходе (E обр =), несколько возрастает I Т р (туннельная составляющая тока обратносмещенного p-n перехода), это приводит к увеличению общего обратного тока I обр = I Т р + IЕ, температурный коэффициент напряжения обратной ветви ВАХ p-n перехода с туннельным эффектом
ТКНобр = . При изменении температуры окружающей среды обратная ветвь ВАХ располагается очень близко к первоначальной зависимости при Т 1=+20 °С.

 

Рис.10. ВАХ реального p-n перехода с туннельным эффектом
при изменении температуры окружающей среды:

T 1= +20 ºC; -------- T 2= +70 ºC

 

Туннельная ветвь прямого тока ВАХ p-n перехода с туннельным эффектом (участок ОАВ зависимости, рис. 10) также слабо зависит от температуры окружающей среды. При возрастании температуры изменяется лишь ток пика I П. Он может как уменьшаться, так и увеличиваться. Это обусловлено следующими двумя факторами: во-первых, при возрастании температуры снижается значение контактной разности потенциалов φ k p-n перехода, вследствие чего уменьшается равновесная ширина p-n перехода l 0 и l пр, что приводит к росту напряженности электрического поля Е и туннельной составляющей тока; во-вторых, при увеличении температуры происходит смещение энергетического уровня Ферми ближе к середине запрещенной зоны (это следует из теории примесных полупроводников) в полупроводниках р+ - и n+-типов, а это приводит к уменьшению перекрытия зон в электронно-дырочном переходе, содержащих энергетические уровни, заполненные электронами. При этом количество туннельных переходов снижается, а также уменьшаются значения токов I T n и I П.

На диффузионном участке (участок ВС, рис. 10) прямой ветви ВАХ электронно-дырочного перехода с туннельным эффектом влияние температуры проявляется так же, как и для обычного p-n перехода. С возрастанием температуры снижается значение контактной разности потенциалов φ k, растет значение диффузионной составляющей тока ID и возрастает величина прямого тока I пр
p-n перехода.

Поэтому диффузионный участок ВС ВАХ p-n перехода (см. рис. 10) с увеличением температуры (Т 2=+70 °С) смещается влево. В этом случае увеличивается значение тока впадины и он становится равным, уменьшается величина напряжения впадины до значения , снижается напряжение раствора до величины . Температурный коэффициент напряжения участка ВС прямой ветви ВАХ (см. рис. 10) меньше нуля и определяется из соотношения

ТКНпр (ВС) = .

 




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2014-01-04; Просмотров: 749; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.009 сек.