Полупроводниковые диоды. Концептуальная диаграмма

Концептуальная диаграмма

Диодом называют электропреобразовательный прибор, который, как правило, содержит один или несколько электрических переходов и два вывода для подключения к внешней цепи. Принцип работы большинства диодов основан на использовании физических явлений в электрическом переходе. Наиболее часто в диодах применяются электронно-дырочный переход, контакт металл – полупроводник, гетеропереход. Однако существуют диоды, структура которых не содержит выпрямляющих электрических переходов (например, диоды Ганна) либо содержит несколько переходов (например, p-i-n-диод, динистор), а также диоды с более сложной структурой переходов (например, МДМ- и МДП-диоды и др.). Полупроводниковый диод как элемент цепи является нелинейным двухполюсником, т.е. электронным прибором, с двумя внешними выводами и нелинейной вольт-амперной характеристикой (ВАХ). Он выполняет функцию преобразования сигналов (выпрямление, детектирование, умножение частоты, преобразование световой энергии в электрическую и др.).

В основу классификации диодов можно положить различные признаки – вид электрического перехода (точечный и плоскостный диоды), физические процессы в переходе (туннельный, лавинно-пролетный диоды и др.), характер преобразования энергии сигнала (светодиод, фотодиод и др.), метод изготовления электрического перехода (сплавные, диффузионные, эпитаксиальные диоды и др.) и т.п. В справочниках по полупроводниковым приборам обычно приводится классификация диодов по применению в радиэлектронной аппаратуре (РЭА) или по назначению. При этом классификация отражает принцип использования преобразующих и нелинейных свойств электрического перехода (выпрямительные и импульсные диоды, преобразовательные, переключательные, варикапы, стабилитроны и др.), диапазон рабочих частот (низкочастотные, высокочастотные, СВЧ-диоды, диоды оптического диапазона и т.п.), исходный материал для изготовления диодных структур (кремниевые, селеновые, германиевые, арсенид-галлиевые диоды и др.)

В системе условных обозначений современных полупроводниковых диодов находят отражение их назначение, физические свойства, основные электрические параметры, конструктивно-технологические признаки, исходный полупроводниковый материал. Все эти данные о приборе связаны со структурой его электрического перехода.

Структура реального диода содержит один или несколько электрических переходов. По конструктивно-технологическим особенностям электрических переходов различают точечные, микросплавные, сплавные, диффузионные, эпитаксиальные, с барьером Шоттки, поликристаллические и другие типы диодов.

У точечных диодов электронно-дырочный переход образован контактом заостренной металлической иглы, например из сплава вольфрама с молибденом, полупроводниковым кристаллом кремния, германия, арсенида галлия и других материалов. Структура перехода изображена на рис.9.1.а. Свойства окружающей среды, чистота поверхности кристалла и механические условия контактирования определяют в значительной мере электрические параметры диода и его ВАХ. Слой р-типа образуется в кристалле полупроводника в результате термодиффузии акцепторных примесей (например, индия или алюминия в германий n-типа) с конца металлической иглы, возникающей под воздействием больших импульсов тока, пропускаемых через контакт. Линейные размеры перехода точечного диода соизмеримы с толщиной его обедненной области. Площадь контакта менее 50 мкм², поэтому емкость перехода мала, а прямые токи через переход не превышают десятков миллиампер. Область р-типа под контактом геометрически неоднородна, и обычно в ней сосредоточено наибольшее количество дефектов кристаллической структуры. Сильное электрическое поле в области контакта способствует появлению значительных токов утечки и генерации.

Структура электронно-дырочного перехода сплавных диодов образуется вплавлением в кристалл полупроводника n-типа сплава с акцепторной примесью, например индия в германий, алюминия в кремний и т.п. В кристалле полупроводника n-типа подвижность электронов в 2-2,5 раза больше, чем дырок в р-полупроводнике. Поэтому при одинаковой электропроводности полупроводников р- и n-типа концентрацию доноров в кристалле – базе диода можно уменьшить и тем самым повысить пробивное напряжение перехода. Этими соображениями обусловлен выбор в диодах в качестве базы кристалла полупроводника с электронной проводимостью.

При изготовлении кремниевых сплавных диодов, структура перехода которых приведена на рис.9.1.б, в кремний вплавляется тонкая алюминиевая проволока при температуре 600-700 ⁰С. В месте сплава формируется тонкий обогащенный алюминием рекристаллизованный слой кремния с той же кристаллической структурой, что и исходный полупроводник, но проводимостью р-типа. Между рекристаллизованным слоем (толщиной в несколько микрометров) и монокристаллом возникает р-n-переход, граница которого указана на рисунке штриховой линией.

Электронно-дырочные переходы сплавных диодов – резкие или ступенчатые. Они пропускают прямые токи до десятков ампер. Из-за большой площади переходов их емкости относительно велики. У микросплавных диодов несколько больший по площади р-n-переход, чем у точечных. Электрический переход микросплавных диодов с золотой связкой (рис.9.1.в) формируется методом микровплавления в кристалл германия тонкой золотой проволочки с присадкой галлия на конце. Под контактом образуется рекристаллизованный слой германия р-типа. Граница р-n-перехода показана на рисунке штриховой линией.

У диффузионных диодов электрический переход изготавливается методом общей или локальной диффузии донорных или акцепторных примесей в кристалл полупроводника. Диффузию можно проводить однократно и многократно. Например, структура электрического перехода кремниевого диода (рис.9.1.г) p⁺-p-n-n⁺типа изготавливается методом общей многократной диффузии. Область р-типа формируется диффузией акцепторной примеси – алюминия в кремниевую пластину n-типа, а область n⁺типа – диффузией в эту же пластину фосфора – донорной примеси. Для образования р⁺ - области проводится вторая диффузия бора в р-область. Омические контакты с р⁺- и n⁺-

областью изготавливают химическим осаждением никеля и последующим гальваническим золочением.

При изготовлении германиевых диффузионных диодов выбирается пластина германия р-типа, так как донорные примеси по сравнению с акцепторными лучше диффундируют в германий. В качестве диффузанта используется сурьма. Для формирования омического контакта с n-областью диффузионной структуры применяется оловянный припой с присадкой сурьмы. Омический контакт с р-областью германия образует вплавленный в эту область индий.

Для уменьшения емкости p-n перехода в высокочастотных диффузионных диодах используется мезаструктура (рис.9.1.д), получаемая методом глубоко химического травления. В результате первой общей диффузии создается n⁺-Si-слой в кристалле n-типа. После второй общей диффузии, формирующей р-слой в кристалле кремния, образования омического контакта и защиты отдельных участков кристалла через маску осуществляется травление поверхности его незащищенных участков. В результате р-n-переход остается только на небольших участках кристалла под омическим контактом. Участки возвышаются над поверхностью кристалла в виде стола (меза – по-испански). Диаметр р-n-перехода после травления уменьшается до нескольких десятков микрометров.

При диффузии получается неравномерное распределение примесей вдоль координаты, перпендикулярной поверхности кристалла. Концентрация диффузанта с глубиной падает, поэтому у диффузионных диодов с плоскостным и плавным р-n-переходом в базе появляется тормозящее электрическое поле.

Эпитаксиальные (планарные, эпитаксиально-планарные) диоды изготавливаются с использованием процесса эпитаксии и локальной диффузии.

Эпитаксией называется процесс наращивания монокристаллических слоев на подложку, используемую как несущая конструкция структуры. В наращиваемом слое сохраняется кристаллическая ориентация подложки. Эпитаксия позволяет наращивать слои любого типа проводимости и удельного сопротивления толщиной в несколько микрометров. Однако р-n-переход создается в большинстве случаев диффузией примесных атомов в эпитаксиальный слой через окно в маске (например, из оксида кремния на рис.9.1.е). Омические контакты с р⁺- и n⁺- областями кристалла создаются операциями металлизации. В кремниевых диодах для создания омических контактов широко используется алюминий.

Планарные или планарно-эпитаксиальные диоды имеют «поверхностную» структуру, а выводы контактирующих областей электрического перехода расположены в одной плоскости. Электрический переход создан в поверхностном слое кристалла толщиной порядка единиц и десятков микрометров от его поверхности (рис.9.1.ж). При изготовлении структуры на подложку кремния n⁺-типа наращивается эпитаксиальный слой n-типа. Затем через окна защитной маски из оксида кремния в нем формируется несколько р⁺-областей диффузией бора, после чего осуществляется металлизация выводов от общей базовой и эмиттерных областей. Таким образом изготовляется диодная матричная планарно-эпитаксиальная структура.

Широкое распространение получают ионно-лучевые методы изготовления электрического перехода диода. При ионной имплантации легирование пластины полупроводника осуществляется бомбардировкой примесными ионами, ускоренными до высоких энергий. Концентрация примесей в имплантированном слое зависит от плотности тока в ионном луче и времени экспозиции. Высокая контролируемость процесса и низкая температура позволяют проводить ионную имплантацию на любой стадии процесса изготовления диода. Глубина проникновения ионов в полупроводник зависит от их энергии. Изменяя энергию ионов, можно обеспечить сложный закон распределения примесей по глубине. Структура электрического перехода диода, созданная ионно-лучевым методом, приведена на рис.9.1.з. На подложке кремния n⁺-типа выращен эпитаксиальный n-слой, в котором ионной имплантацией создана р⁺-область. Омические контакты получены химическим осаждением сначала титана, а затем никеля на полупроводниковую пластину с обеих сторон.

Диоды с барьером Шоттки (рис.9.1.и) в большинстве случаев изготавливаются напылением металла на очищенную поверхность кристалла в вакуумной среде, химическим осаждением металла на полупроводник или с помощью высокочастотного ионного распыления металла. В качестве подложки используются кремний, арсенид галлия. Электрические свойства перехода зависят от подобранной пары металл-полупроводник. В качестве контактирующего металла выпрямляющего перехода применяют алюминий, золото, молибден и др.

Кроме рассмотренных структур плоскостных диодов широко используются комбинированные структуры (эпитаксиально-диффузионные, диффузионно-сплавные, мезасплавные и др.).

Особую группу диодов составляют селеновые и титановые диоды. Электронно-дырочный гетеропереход селеновых выпрямителей образован селеном с проводимостью р-типа и селенидом кадмия с проводимостью n-типа, а гетеропереход титановых выпрямителей диоксида – слоем титана n-типа с напыленной в вакууме металлической пленкой (золото, серебро, висмут). Образование электрического перехода в селеновых выпрямителях происходит в процессе химической реакции при нанесении кадмия на селен.

Диоды выпускаются в различном конструктивном исполнении: металлокерамическом, стеклянном, керамическом, металлостеклянном, металлопластмассовом, пластмассовом корпусе с гибкими и жесткими выводами, а также на керамических микроплатах в бескорпусном исполнении с защитным покрытием и гибкими выводами. Корпус защищает электрический переход диода от вредных факторов окружающей среды.

Дата добавления: 2014-01-06