Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

Технологические процессы с электронным нагревом




 

В технологических процессах электронного нагрева обеспечиваются плотности мощности от105 до1012 Вт/м2 (от 0,1 до 107 Вт/мм2). Для нагрева без плавления достаточно плотности мощности менее 100 Вт/мм2, для плавления - до 10 кВт/мм2, и для испарения – до 1000 кВт/мм2. Выбор конкретного значения плотности мощности определяется физическими характеристиками материала и видом обработки. Например, при плавлении металла электронным потоком с плотностью мощности 100 Вт/мм2 следует учесть, что на плавление расходуется примерно 35% мощности луча, 60 % отводится в объем металла и 5 % уносится с испаряемыми частицами.

Обработку можно производить как сфокусированным, так и несфокусированным потоком электронов.

Обработка несфокусированным потоком электронов

Нагрев несфокусированным потоком используется для обезгаживания материала деталей, рекристаллизации пленочных композиций перед механической обработкой в вакууме или диффузионной сваркой. Проводят вакуумной камере с металлическими термоэмиссионными катодами, ускоряющие напряжения до 10кВ, возможен предварительный нагрев без ускоряющего напряжения тепловым излучением катодов.

Переплав в вакуумной электронно-лучевой установке применяется в производстве особо чистых либо агрессивных и нестойких материалов. При этом концентрация примесей может быть снижена, например, в полупроводниковых материалах до 10-8 -10-10. Возможно одновременное получение сплавов разных металлов. Применяется для выращивания монокристаллов по методам Чохральского и Вернейля.

Электронно-лучевая обработка

Реализуется при воздействии сфокусированного электронного луча на материал.

Сварку электронным лучом можно вести при низком (до 30 кВ) ускоряющем напряжении, среднем (до 60 – 80 кВ) и высоком (до 200 кВ). Электронный пучок на поверхности металла фокусируют в пятно диаметром от 0,1 мм до нескольких миллиметров, что при мощности луча от1 до 100 кВт позволяет достигать плотностей мощности 1…100 кВт/мм2.

Изменяя параметры процесса, можно получать различные соотношения глубины проплавления h к ширине шва d. Различают следующие режимы сварки: мягкий (h<<d), переходный (hd), жесткий (h>d), с «кинжальным» проплавлением (h>>d). Глубокое проплавление достигается при относительно малом вводе энергии в материал.

Простота управления параметрами пучка во времени и в пространстве позволяет реализовать как непрерывную, так и импульсную обработку, выполнять швы сложной конфигурации. Выбор режима сварки зависит от теплофизических свойств материалов, конструкции сварного соединения и требуемой геометрии зоны проплавления.

Для формирования шва сфокусированный электронный пучок должен перемещаться вдоль линии соединения с определенной скоростью. При непрерывном соединении чаще всего соблюдают соотношение hd. Глубина проплавления при низких и средних ускоряющих напряжениях зависит от мощности пучка. Если пренебречь рассеянием электронов в парах материала, то сила тока луча и ускоряющее напряжение примерно одинаково влияют на глубину проплавления. При высоких ускоряющих напряжениях значительная часть мощности расходуется на ионизацию паров области кратера проплавления.

При транспортировке пучка к свариваемым материалам электроны соударяются с молекулами остаточных газов и паров материала и рассеиваются. Значительное расширение луча наблюдается уже при давлении 1…10 Па. При числах соударений более 20 происходит уменьшение отношения h/d, если же это число достигает уровня примерно 104, электроны в луче расходятся под углом более 100 к первоначальному направлению и сварку выполнять невозможно. Поэтому в сварочных камерах поддерживаю вакуум не хуже 10-2 Па.

Однако при ускоряющих напряжениях более 125 кВ и расстоянии от выходного отверстия электронной пушки до детали в несколько миллиметров можно выполнять сварку с соотношением h/d = 1…5 даже при атмосферном давлении. Установлено, что при силе тока пучка, выходящего в атмосферу, порядка 30 мА плотность атмосферного газа в области потока электронов снижается в 8 раз, следовательно, возможно подведение к поверхности материала потока электронов с достаточной для сварки плотностью.

Одной из проблем сварки является требование ограничения степени закалки и предотвращения появления закалочных трещин. Для этого нужно снизить скорость нагрева, например, предварительно подогревая области, прилегающие к будущему шву. Это можно сделать расфокусированным электронным потоком, сканируя им вдоль и поперек шва и создавая тепловые поля с необходимыми характеристиками. Для полного или частичного восстановления свойств материала в зоне шва в качестве заключительной операции проводят отжиг, осуществляемый так же, как и предварительный подогрев.

Особый интерес представляет сварка с «кинжальным»проплавлением при h/d = 40…50. Она реализуется при больших ускоряющих напряжениях и плотностях мощности 105…106 Вт/мм2 и более. Так как глубина проникновения электронов в материал пропорциональна квадрату ускоряющего напряжения, то основное выделение энергии происходит под поверхностным слоем. Перегрев в глубине материала не компенсируется отводом тепла за счет теплопроводности, поэтому возникает плазменный канал с высоким давлением пара, определяемым температурой и достигающим сотен – тысяч паскалей. Канал периодически перекрывается жидкой пленкой, сквозь которую электроны пучка проходят с малыми потерями, отдавая свою энергию, в основном, на испарение материала со дна канала. Давление паров повышается и разрывает пленку, но перед этим из-за высокой концентрации частиц происходит интенсивное рассеяние энергии на стенках с образованием жидкой фазы материала. Жидкая фаза выталкивается парами вверх и вновь перекрывает канал в его верхней части. В режиме «кинжального» проплавления ширина швов уменьшается пропорционально величине . Для регулирования тепловой нагрузки на прилегающие области применяют импульсный режим работы электронной пушки.

Размерная обработка проводится с помощью остросфокусированных потоков электронов с плотностями мощности не менее 5*106 Вт/мм2. Заключается в интенсивном испарении материала из зоны воздействия луча с минимальным образованием жидкой фазы. Используется для формирования планарных изображений, подгонки электрических номиналов элементов тонкопленочных микросхем, обработки изделий из труднообрабатываемых механически материалов, таких, как керамика, металлокерамика, ферриты, полупроводниковые материалы и т. п. Мощность установок в непрерывном режиме обычно не превышает 1 кВт, в импульсном – 15 кВт. Результат зависит от теплофизических свойств материала (температуры плавления, теплопроводности, удельной теплоемкости, плотности). Профиль образуемого канала и его поперечный размер зависят от параметров процесса: плотности мощности, длительности импульса при импульсном режиме, силы тока, положения фокуса пучка относительно обрабатываемой поверхности. При больших плотностях мощности и ускоряющих напряжениях порядка 100…175 кВ в зоне обработки возникают очень высокие температуры и температурные градиенты (порядка 105 К/мм). Все известные материалы при таких условиях плавятся и затем испаряются либо непосредственно сублимируют.

Для размерной обработки целесообразно использовать импульсные режимы, одно- и многоимпульсные, при которых в паузе между импульсами зона обработки охлаждается. Импульсные режимы эффективны, например, при обработке многослойных пленочных структур. Толщина обрабатываемых пленок обычно не превышает 10…100 нм. Особенности установок для такой обработки: применение электронных пушек с большими фокусными расстояниями и значительным полем отклонения луча (до 3000 поперечных размеров луча), обработка металлических и полупроводниковых пленок на диэлектрических подложках.

Напыление пленок в вакууме электронно-лучевым испарением материала. Электронный луч используется для испарения наносимого материала, а также для подогрева поверхности, на которую наносится пленка, до заданной температуры. Применяется в микроэлектронике, в двигателестроении. Осуществляется в установках с поворотом электронного потока на 180…270о и мощностью до 15 кВт.

 




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2014-01-07; Просмотров: 436; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.009 сек.