Химико-фотографическая обработка

Лекция 12

После фотовыводного устройства (ФВУ) для обеспечения стабильности полученных результатов необходимо подвергнуть отэкспонированный материал химико-фотографической обработке (ХФО). Для нас важно, что бы процесс ХФО был стабильным. Этого нельзя достичь, используя ручное проявление. Для получения стабильных результатов необходимо проводить ХФО в специальных проявочных машинах, называемых процессорами ХФО. Проявочная машина проводит следующие операции:

проявление скрытого фотографического изображения полученного на фотоматериале и получение реальных оптических плотностей;

снятие излишков проявителя с пленки;

фиксирование изображения, то есть удаление не проявленного галогенида серебра;

снятие излишков фиксирующего раствора;

сушка.

Для того чтобы процесс ХФО был согласован по времени с фотовыводом, этот процесс обычно проводится в условиях интенсификации. Основным путем интенсификации процесса является высокая температура обработки. В настоящее время используется температурный режим в пределах 27-30⁰ С.

В настоящее время для ХФО чаще всего используется проявитель Rapid Akses – это высокоскоростной проявитель. При проявлении необходимо обеспечить условия при которых результаты были бы стабильными. Для достижения таких результатов должна быть обеспечена организация пополнения проявителя и восстановления его рабочей способности, чтобы избежать истощения. Обеспечивается стабильность путем введения регенерирующих добавок. Этим самым обеспечивается как пополнения проявителя, так и компенсация его истощения. Регенерирующая добавка – это тот же самый проявитель, но с высоким содержанием ускоряющих и проявляющих веществ.

Проверку стабильности обрабатывающих растворов можно осуществлять путем периодического прогона через обрабатывающий раствор специальных тестовых шкал.

Тестовые шкалы представляют собой предварительно экспонированные ступенчатые оптические клинья. Шкала содержит скрытое оптическое изображение. При проявление должны быть обеспечены необходимые светочувствительность и контрастность материала. Обеспечение этих параметров и контролируется по клину. На нем должно быть всегда обеспечено одно и тоже поле, которое разделяет потемневшие и не потемневшие участки – таким образом контролируется светочувствительность. Контрастность процесса контролируется по числу полей пленки, которые являются переходными между полностью проявленными участками и не проявленными (черными и белыми). Если полей много, контрастность может быть уменьшена.

В настоящее время такой способ используется редко, так как необходимо приобретать клинья.

Стабильность процесса испытывается одновременно с процессом линеаризации.

Для современных ФВУ используются пленки с контрастностью не менее 6. Эти пленки должны иметь очень прочные технологические свойства, у них не должно быть отслаиваний, они должны иметь противоскручивающийся слой, должны иметь достаточно хорошую стабильность толщины. Спектральная чувствительность должна быть согласована со спектральной чувствительностью источника излучений. Эти пленки должны быть высокочувствительны при коротких выдержках.

Дата добавления: 2014-01-07