Лекция 25

Режимы электроимпульсной и электроискровой обработки существенно различны.

При электроимпульсной обработке применяют пониженные напряжения и относительно большие значения средних токов, а частота тока, питающего разрядный межэлектродный промежуток, стабильна.

Электроискровая обработка отличается широким диапазоном режимов обработки — от черновой производительностью 1,5 — 10 мм³/с при шероховатости обработанной поверхности Rz = 160 - 40 мкм до отделочной производительностью около 0,001 мм³/с при шероховатости поверхности Ra = 1,25 - 0,16 мкм.

Характерные черты этого процесса: сравнительно низкая производительность обработки, большой износ электрод-инструментов, применение преимущественно релаксационных схем генерирования импульсов длительностью 10 — 200 мкс при частоте 2 — 5 кГц, использование прямой полярности, образование на обрабатываемой поверхности тонкого дефектного слоя толщиной 0.2 — 0.5 мм на черновых и 0.02 — 0,05 мм на чистовых режимах. Значительный износ электродов ограничивает технологические возможности этого метода.

Схема электроискрового станка: 1 – электрод-инструмент; 2 – ванна; 3 – электрод-заготовка; 4 – диэлектрическая жидкость; 5 – изолятор

Электроискровое наращивание и упрочнение поверхностного слоя

Схема процесса ЭЭО.

Схема электрохимического полирования:

1-ванна; 2-обрабатываемая заготовка; 3-пластина-электрод; 4-электролит; 5 микровыступ; 6-продукт анодного растворения.

Дата добавления: 2014-01-04