где R – газовая постоянная; Т – температура, К; е – основание натурального логарифма; А – коэффициент, зависящий от кристаллической решетки, .
, (21)
где а – межатомное расстояние; NА – число Авогадро; h – постоянная Планка; Q – теплота активации диффузии или теплота разрыхления кристаллической решетки, отнесенная к одному молю металла растворителя, ; при самодиффузии она составляет 65–80 % теплоты испарения.
Чем больше Q, тем устойчивее структура, меньше D и, следовательно, меньше скорость диффузии.
Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет
studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав!Последнее добавление