В 2003 г. на проходящей в Токио конференции по твердотельным устройствам и материалам (SDDM 2003) компания AMD продемонстрировала новую 45-нм КМОП–технологию с 20-нм затворными приборами (рис. 2.1.32).
В разработке AMD также используется технология «обедненный кремний-на-изоляторе» (FDSOI). Канал транзистора с трех сторон окружен затвором, выполненным из силицида никеля (NiSi). Этот металлосодержащий материал обеспечивает лучшие характеристики по сравнению с традиционным кремнием.
Рис. 2.1.32. Аналог Tri-Gate от AMD
Использование силицида никеля для создания затворов приводит к возникновению дефектов в кристаллической решетке кремния в токопроводящем канале. Наличие таких дефектов повышает подвижность электронов и соответственно быстродействие транзистора.
Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет
studopedia.su - Студопедия (2013 - 2025) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав!Последнее добавление