КАТЕГОРИИ: Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748) |
Гетеропереход
На рис.123а изображены энергетические диаграммы полупроводников n-и p-типов до осуществления контакта. Полупроводник n-типа имеет более широкую «щель», нежели область p-типа, т.е. Eg1 > Eg2. Важными характеристиками пары подобных полупроводников является Рис. 123. Образование гетероперехода
разность энергий «дна» зоны проводимости ∆Ес=Ес1-Ес2 и «потолка» валентной зоны ∆ЕV=Еg1-Eg2-∆Ес. Энергетическая диаграмма гетероперехода в равновесном состоянии изображена на рис.123б. Диффузия основных носителей вызывает появление обеднённых областей lp и lp, которые содержат объёмные заряды некомпенсированных ионов доноров и акцепторов. Это приводит к изгибам границ зон вблизи металлургической границы x0 по тому же механизму, что и в случае с гомопереходом (рис.11), а на самой границе образуются разрывы границ зон ∆Ес и ∆ЕV. Величины изгибов зон еφ01 и еφ02 определяют внутреннюю разность потенциалов, возникающую в обеднённых слоях (индекс «ноль» указывает в данном случае на равновесное состояние). То есть сумма φ01 + φ02= φ0к представляет собой внутреннюю контактную разность потенциалов, которая так же, как и в случае с гомопереходом, может быть выражена через уровни Ферми в изолированных полупроводниках (рис.123а): φ0к =(ЕF1-EF2). Однако, в случае с гетеропереходом внутренняя контактная разность φ0к не определяется высотой потенциального барьера, как это имело место у гомоперехода. Как следует из рис.123б, высота потенциального барьера φ0n для электронов, диффундирующих из n -области в p -область составит: φ0n = φ0к-∆Ес / e, а для дырок, движущихся из p- в n-область φ0p = φ0к + ∆Еv / e. Таким образом, потенциальный барьер для электронов ниже, чем для дырок на величину φ0p - φ0n =(Еg1-Eg2) / е. Поэтому, если бы гетеропереход был бы создан в кристалле выпрямительного диода, то при приложении к нему прямого напряжения имела бы место инжекция (диффузия) практически только электронов, даже если бы концентрация в p -области (базе) была бы не меньше, чем в n -области (эмиттере). Для получения такого же коэффициента инжекции, близкого к единице, в случае с гомопереходом базу приходится легировать значительно в меньшей степени, чем эмиттер. Этим гетеропереход принципиально отличается от гомоперехода. Приведём параметры гетероперехода между AlxGa1-xAs n -типа и GaAs p -типа при х =0,3 (х и 1- х – относительное содержание Al и Ga в кристалличсской решётке). Концентрация доноров N д=1022м-3, Eg 1=1,8эВ, концентрация акцепторов N A=1023м-3, E g2=1,42эВ. При этом φ0к =1,65эВ, φ0n =1,27В, φ0p= 1,65В (∆Ес= 0,38эВ, ∆Еv 0). Несмотря на то, что N А N д, отношение дырочного тока инжекции к электронному порядка exp[- ∆Ес / (kT)] 10-6 – т.е. ничтожно мало, и коэффициент инжекции практически равен единице. Фотодиоды имеют следующие параметры и характеристики. Длина волны, соответствующая максимуму спектральной чувствительности – λmax, область спектральной чувствительности ∆ λ, находимые по спектральной характеристике, темновой ток IТ, рабочее напряжение UР (либо допустимое обратное постоянное напряжение), угол диаграммы направленности (плоский угол ввода излучения в фотодиод, при котором чувствительность фотодиода составляет не менее половины от её максимального значения), время нарастания и спада фотоответа (либо постоянная времени), интервал рабочих температур.
Схема включения фотодиода в фотодиодном режиме изображена на рис.113. Как следует из рис.12, в диодном режиме работы фотодиод является источником тока, поскольку величина фототока почти не зависит от приращений напряжения на его выводах. Поэтому при усилении сигнала фотоответа диода усилителем, имеющем низкоомный вход, фотодиод необходимо включать последовательно с его входом. В этом случае Rн (рис.113) является входным сопротивлением усилителя). В случае использования усилителя с высокоомным входом диод включается параллельно ему, тогда Rн является плечом делителя напряжения источника питания, падение напряжения на котором является входным сигналом усилителя. Величина его сопротивления должна обеспечить максимум входного сигнала усилителя.
Дата добавления: 2014-11-18; Просмотров: 568; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы! Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет |