КАТЕГОРИИ: Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748) |
Методы расслаивания
Статистические методы анализа качества электронных средств Надежностные модели Стоимостные модели
В качестве примера можно привести стоимость кристалла полупроводниковой микросхемы (или платы гибридной микросхемы). . Эту формулу можно преобразовать через площадь. SП – площадь подложки; Ск – стоимость проведения k-ой технологической операции изготовления ИМС; С0 – стоимость подложки; N – число кристаллов на одной подложке; SИМС – площадь, занимаемая одним кристаллом; РП – доля годных ИМС на одной подложке, %; М – число операций; S0 – стоимость подложки.
Рассмотрим резистивную тонкопленочную микросхему. Основным элементом являются тонкопленочные резисторы. Если процесс деградации определяется диффузией, то выражение для интенсивности отказов тонкопленочных резисторов (ТПР) ИМС можно представить следующим образом: , где b – ширина резистивного слоя; t – текущее время; t0 – среднее время до отказа.
Одним из наиболее простых и эффективных методов анализа качества электронных средств является метод расслаивания. В данных случаях производят расслаивание статистических данных, т. е. группируют данные в зависимости от условий их получения. Обработку данных проводят отдельно по каждой группе. Данные, разделенные на группы, называют слоями (стратами), а сам процесс разделения на слои (страты) – расслаиванием (стратификацией). В производственных процессах для расслаивания используется метод 4М, который учитывает влияние человека, оборудования, материалов и изготовления: 1) man, 2) machine, 3) material, 4) method. В результате расслаивания должны соблюдаться следующие два условия: 1. различия между значениями случайной величины внутри слоя (дисперсия) должны быть как можно меньше по сравнению с различием ее значений вне расслоенной исходной совокупности; 2. различие между слоями (различия между средними значениями случайных величин слоев) должно быть как можно больше. Пример. Пусть мы провели измерения пробивных напряжений диэлектрических слоев в 160 МОП – структурах. Данные приведены в таблице 2.1.
Произведем упорядочение этих значений. Упорядоченный статистический ряд этих значений приведен в таблице 2.2.
Пусть левый столбец представляет собой данные, полученные по приборам, изготовленным исполнителем А, а правый столбец таблицы - по приборам, изготовленным исполнителем В. А (n=75) В (n=85) Обработаем этот цифровой материал, расслоив данные соответственно по исполнителям А и В. Получим интервальный ряд распределений пробивных напряжений (таблица 3.1). Построим по этим данным гистограмму.
Среднее значение для UпрА=189,4; UпрВ=199,847 Дисперсия S2A=13,2; S2В=14,742 Общее среднее ; общая дисперсия S2х=41,197. Таким образом видно, что благодаря расслаиванию дисперсия внутри слоев резко уменьшилась.
Дата добавления: 2015-04-29; Просмотров: 262; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы! Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет |