Студопедия

КАТЕГОРИИ:


Архитектура-(3434)Астрономия-(809)Биология-(7483)Биотехнологии-(1457)Военное дело-(14632)Высокие технологии-(1363)География-(913)Геология-(1438)Государство-(451)Демография-(1065)Дом-(47672)Журналистика и СМИ-(912)Изобретательство-(14524)Иностранные языки-(4268)Информатика-(17799)Искусство-(1338)История-(13644)Компьютеры-(11121)Косметика-(55)Кулинария-(373)Культура-(8427)Лингвистика-(374)Литература-(1642)Маркетинг-(23702)Математика-(16968)Машиностроение-(1700)Медицина-(12668)Менеджмент-(24684)Механика-(15423)Науковедение-(506)Образование-(11852)Охрана труда-(3308)Педагогика-(5571)Полиграфия-(1312)Политика-(7869)Право-(5454)Приборостроение-(1369)Программирование-(2801)Производство-(97182)Промышленность-(8706)Психология-(18388)Религия-(3217)Связь-(10668)Сельское хозяйство-(299)Социология-(6455)Спорт-(42831)Строительство-(4793)Торговля-(5050)Транспорт-(2929)Туризм-(1568)Физика-(3942)Философия-(17015)Финансы-(26596)Химия-(22929)Экология-(12095)Экономика-(9961)Электроника-(8441)Электротехника-(4623)Энергетика-(12629)Юриспруденция-(1492)Ядерная техника-(1748)

Диффузионная емкость




Всякий p-n-переход шунтируется емкостью Сn явл-ся суммой емкостей:Cnдифбар, где Сбар - барьерная емкость, обусловленная наличием в области объемного заряда p-n-перехода ионизир-ных примес атомов, заряд кот не скомпенсирован основ носителями; Сдиф -диффуз емкость, связ-ная с инерционностью установления распред-я конц-ции неравновесных нз внутри p и n – областей структуры.

Сдиф ключена параллельно Сбар и следствием её наличия в общем случае служит изменение прямого тока и как следствие изменение вел-ны объемного заряда неравновесных эл-нов и дырок. Сдиф как правило имеет порядок от нескольких сотен до неск тысяч пФ, поэтому при прямом напряж емкость p-n-перехода определяется Сдиф, а при обратном - Сбар.

По мере прямого тока Сдиф превышает знач Сбар. Носители заряда, инжектируемые p-n-переходом распространяются в p и n – областях, подчиняясь законам диффузии. Вследствие рекомбинации концентрация этих носителей, по мере диффузии вглубь полупроводниковой структуры убывает, причем глубина проникновения имеет порядок диффузионной длины L. Этот процесс приводит к накоплению неравновесных нз вблизи p-n-перехода. Причем заряд этих носителей пропорционален току через p-n-переход, однако из-за сравнительно медленного характера диффузии и рекомбинации неравновесных нз он не может мгновенно изменится с изменением тока. Инерционность зарядов опис-тся t жизни инжектируемых эл-нов и дырок и обуславливает емкостной характер реакции p-n-перехода на всякое изменение прямого тока это явление опис-ся эквивалентной Сдиф p-n- перехода, которая при достаточной протяженности p и n областей п/п структуры, превышающей L на низких частотах описывается выражением:

, где Np и Pn - концентрация неосновных равновесных электронов и дырок в p и n – областях перехода и - диффузионные длины электронов и дырок в тех же областях. При повышении частоты уменьшается и 0 на частотах, период которых значительно меньше времени жизни неосновных носителей заряда τn и τp.

 

 




Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2015-06-04; Просмотров: 693; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!


Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет



studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав! Последнее добавление




Генерация страницы за: 0.009 сек.