C (p) - равновесная концентрация рассматриваемого компонента (при R стремящемуся к бесконечности, то есть к формированию плоской поверхности), соответствующая линии растворимости на диаграмме состояния при рассматриваемой температуре,
Сс - концентрация рассматриваемого компонента в частице новой фазы,
Vм - объем молекулы соединения,
σ - коэффициент поверхностного натяжения,
к - постоянная Больцмана,
Т - температура процесса.
Сс dR/dt = D dC/dr|r=R = (D/R)(Cср – CR) = (Dα/R²)[(R/Rк) – 1)
где ∆ = Cср - C (p) - пересыщение твердого раствора,
Rк = α/∆ - критический радиус частицы.
При R > Rк (рис.11) частица растет, при R < Rк (рис.12) частица растворяется.
Рис.11. Схематическое распределение концентрации компонента В в зоне роста частицы AmBn (R > Rк)
Рис.12. Схематическое распределение концентрации компонента В в зоне растворения частицы AmBn (R < Rк)
Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет
studopedia.su - Студопедия (2013 - 2024) год. Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав!Последнее добавление